信然無油空壓機一舉打破品牌壓縮機在芯片光刻機曝光機行業(yè)的壟斷地位，成功為某高端芯片制造商的進口光刻機曝光機領域實現零的突破，標志著信然無油螺桿壓縮機已經可以滿足光刻機曝光機領域對空氣的苛刻要求。

曝光機是生產大規(guī)模集成電路的核心設備，制造和維護需要高度的光學和電子工業(yè)基礎，世界上只有少數廠家掌握。因此曝光機價格昂貴，通常在 3 千萬至 5 億美元。

光刻機（lithography）又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

自從臺積電真的斷供華為，讓其無高端芯片可用后，我們真的是不再抱有任何幻想。對于核心的芯片技術，只有掌握在自己手里才好，否則隨時都有可能被卡脖子。

面對美國的無理打壓，國內很多企業(yè)都表示將投入巨資來研發(fā)芯片，包括阿里、小米、格力等巨頭，以及其它很多芯片企業(yè)加入，一時間國內芯片行業(yè)欣欣向榮。在這里面表現好的還是中芯國際，據其聯席執(zhí)行官梁孟松所說，7nm的研發(fā)工作已經完成。

然而，邁過了這道坎，卻又迎來了另外一道坎，ASML的EUV光刻機卻不賣給我們，背后又是美國在搗鬼。沒有EUV光刻機，即使我們的制程達到了3nm也沒用，根本就無法量產。

怎么辦？還是得靠自己。過去兩年來，接連看到看到類似“ASML坐不住了”，“ASML扛不住了”，“ASML再見了”的自媒體文章，點進去一看都是標題黨，自我安慰。不過，也確實有一些實現了技術突破。

就在前段時間，南京大學研究出了寬禁帶半導體pn結型EUV探測器。探測器是制造光刻機的一個關鍵零部件，之前使用的都是Si基紫外探測器，這種探測器存在不少缺陷，特別是對于EUV光刻機，需要更好的技術。

如今這項技術被我國的研究團隊所突破，未來將會使用在新一代光刻機上面。很多網友看到這項成果后，就認為我們也將可以生產EUV光刻機了，ASML地位將不保了，壟斷要被打破了。

在光刻機關鍵技術上實現了突破，確實是一件值得高興的事情，但我們還是要理性看待國內光刻機和ASML的差距。ASML是全球較好的光刻機制造商，其生產的EUV光刻機可以用于3nm的量產。而國內光刻機規(guī)模較大的制造商是上海微電子集團，仍然在28nm階段，差距還是非常大。

目前，全球高端光刻機市場基本被ASML壟斷。2021年ASML營收186.11億歐元，每臺EUV光刻機售價高達1.5億歐元。對于這樣一個利潤豐厚的市場，誰都眼饞。因此，不少企業(yè)都在加緊技術研發(fā)，尋找替代EUV光刻機的設備。

佳能、鎧俠等廠商就聯合研發(fā)了NIL工藝，在不需要EUV光刻機的情況下，也能達到5nm。還有華為在進行光電芯片的研發(fā)，蘋果、英特爾都在自研芯片封裝技術，俄羅斯投入巨資想研發(fā)X射線光刻機。

不過，想超越或者取代ASML光刻機，沒那么容易。中國工程院院士，著名集成電路專家吳漢明就說過，光刻機是全球化的結晶，光靠一個國家做不出來。

首先，光刻機的零部件有10多萬個，非常復雜，供應商就有5000多家，來自全球40多個國家。其中來自荷蘭本土的就有1600個，歐美其它國家的也有不少，亞洲的供應商也有上千家，但大多數來說日本、韓國、中國臺灣，至于中國大陸沒有看到公布的數據。

其次，一臺光刻機需要很多技術，而且也來自世界各國，比如瑞典的軸承和數控機臺、德國機械工藝和蔡司鏡頭、美國的光源設備和激光等等，這些技術，我們還不掌握，或者有比較大的差距。美國之所以對ASML有那么大的話語權，就是因為很多技術來自美企。

實際上，ASML非常看重中國市場，也想把更多的光刻機賣給中國。在2022年一季度，ASML就向中國市場出貨了23臺DUV光刻機。雖然還沒有EUV光刻機，但DUV光刻機管夠。

作為全球較大的芯片消費市場，ASML其實也擔心，通過封鎖的手段，只會加快我們自研的步伐，雖然暫時無法取代，但隨著技術的進步，依賴性就會不斷降低。如此一來，不但會丟失中國市場，還會出現一個強大的競爭對手。

在上個月，中國電子科技集團第九研究所傳來喜訊，表示成功研制出了“寬頻帶同軸探針”。這個產品主要用來芯片的良率測試，是一個非常關鍵的工具。此前，這項技術被國外牢牢把控，如今實現了自主研發(fā)，無疑又是一大進步。

雖然我們無法立即制造出更好的光刻機，但在從每個關鍵技術上不斷突破，也是很大的進步，如果我們掌握了光刻機的關鍵技術，一樣可以左右光刻機的發(fā)展。所以，打破壟斷還需逐個突破。

理性認識到國內光刻機與ASML的差距，才能更好地彌補差距。不要盲目的帶節(jié)奏，沉下心好好進行技術研發(fā)才是硬道理。